年別の研究成果
年別の研究成果
フィンガープリント
Munehiro Tadaが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
- 1 類似のプロファイル
過去5年の共同研究と上位研究分野
国/地域レベルにおける最近の外部共同研究。点をクリックして詳細を開くか、または
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BEOL Interconnects for 2nm Technology Node and Beyond
Thareja, G., Mema, A., Qu, G., Giuliani, N., Cornigli, D., Tanaka, T., Piccinini, E., Wang, X., Palmieri, A., Barkam, S., Jamieson, M., Xie, B., You, S., Sharma, S., Wu, Y., Gage, M., Wu, Z., Shaviv, R., Nardi, F. & Haverty, M. & 23 others, , 2025, 2025 Symposium on VLSI Technology and Circuits, VLSI Technology and Circuits 2025. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., (Digest of Technical Papers - Symposium on VLSI Technology).研究成果: Conference contribution
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Low Resistive Ru Thin Film on Dielectrics without Adhesive Liner for Sub-2nm Interconnects
Hayashi, R., Ogawa, M., Oshio, S., Adachi, K., Tanaka, T. & Tada, M., 2025, 2025 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2025. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., (2025 IEEE International Interconnect Technology Conference, IITC 2025).研究成果: Conference contribution
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Modeling of the cryogenic conductivity of highly doped silicon in advanced CMOS
Yoshinaga, K., Watanabe, K., Toyoshima, R., Tada, M., Ishikuro, H. & Uchida, K., 2025 9月 1, In: Applied Physics Express. 18, 9, 094001.研究成果: Article › 査読
Open Access -
A 0.11pJ/bit read energy embedded NanoBridge non-volatile memory and its integration in a 28 nm 32 bit RISC-V microcontroller units
Bai, X., Nebashi, R., Miyamura, M., Funahashi, K., Okamoto, K., Numata, H., Iguchi, N., Sakamoto, T. & Tada, M., 2024 2月 29, In: Japanese journal of applied physics. 63, 2, 02SP59.研究成果: Article › 査読
Open Access2 被引用数 (Scopus) -
A 65nm Cryogenic CMOS Design and Performance at 4.2K for Quantum State Controller Application
Tada, M., Okamoto, K., Tanaka, T., Miyamura, M., Ishikuro, H., Uchida, K. & Sakamoto, T., 2024, In: IEEE Journal of the Electron Devices Society. 12, p. 28-33 6 p.研究成果: Article › 査読
Open Access6 被引用数 (Scopus)