Breaking the fabrication determined resolution limit of photonic crystal wavemeter by machine learning

Jocelyn Hofs, Takumasa Kodama, Shengji Jin, Takasumi Tanabe

研究成果: Conference contribution

抄録

By utilizing random localization patterns as training data for machine learning, we achieved a 0.2-nm wavelength resolution with a fabricated photonic crystal wavemeter, which greatly exceeds the limit imposed by the fabrication.

本文言語English
ホスト出版物のタイトルCLEO
ホスト出版物のサブタイトルScience and Innovations, CLEO_SI 2020
出版社Optica Publishing Group (formerly OSA)
ISBN(印刷版)9781943580767
DOI
出版ステータスPublished - 2020
イベントCLEO: Science and Innovations, CLEO_SI 2020 - Washington, United States
継続期間: 2020 5月 102020 5月 15

出版物シリーズ

名前Optics InfoBase Conference Papers
Part F183-CLEO-SI 2020
ISSN(電子版)2162-2701

Conference

ConferenceCLEO: Science and Innovations, CLEO_SI 2020
国/地域United States
CityWashington
Period20/5/1020/5/15

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 材料力学

フィンガープリント

「Breaking the fabrication determined resolution limit of photonic crystal wavemeter by machine learning」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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