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Coulomb blockade in VLSI-compatible multiple-dot and single-dot MOSFETs

研究成果: Article査読

抄録

Silicon-MOSFET-based single electron devices are promising for the future of extremely low power VLSI applications. Very narrow wire MOSFET and point contact MOSFET, which act as multiple-dot and single-dot single electron devices respectively, are fabricated using a VLSI-compatible anisotropic etching process. The Coulomb blockade phenomena in these devices have been extensively investigated. The devices show the Coulomb blockade oscillations at room temperature. At low temperatures, the coupling effects between dots play an important role in electron transport in the multiple-dot MOSFETs, while the quantum mechanical effects strongly affect the transport properties in the single-dot MOSFETs.

本文言語English
ページ(範囲)591-603
ページ数13
ジャーナルInternational Journal of Electronics
86
5
DOI
出版ステータスPublished - 1999 5月
外部発表はい

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「Coulomb blockade in VLSI-compatible multiple-dot and single-dot MOSFETs」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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