Implementation of an advanced dressing protocol for global qubit control in silicon

I. Hansen, A. E. Seedhouse, K. W. Chan, F. E. Hudson, K. M. Itoh, A. Laucht, A. Saraiva, C. H. Yang, A. S. Dzurak

研究成果: Article査読

12 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Implementation of an advanced dressing protocol for global qubit control in silicon」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy