Implementation of an advanced dressing protocol for global qubit control in silicon
I. Hansen, A. E. Seedhouse, K. W. Chan, F. E. Hudson, K. M. Itoh, A. Laucht, A. Saraiva, C. H. Yang, A. S. Dzurak
研究成果: Article › 査読
22
被引用数
(Scopus)