Structural and Dielectric Study of Thin Amorphous Layers of the Ge–Sb–Te System Prepared by RF Magnetron Sputtering

R. A. Castro-Arata, V. M. Stozharov, D. M. Dolginsev, A. A. Kononov, Y. Saito, P. Fons, J. Tominaga, N. I. Anisimova, A. V. Kolobov

研究成果: Article査読

抄録

Abstract: The results of studying the structure and processes of dielectric relaxation in thin layers of Ge–Sb–Te are presented. The found permittivity dispersion and occurrence of dielectric-loss maxima in the low-frequency region are explained by the structural features of the compounds under study.

本文言語English
ページ(範囲)201-204
ページ数4
ジャーナルSemiconductors
54
2
DOI
出版ステータスPublished - 2020 2月 1
外部発表はい

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  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 原子分子物理学および光学
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フィンガープリント

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