The Radical Transport in the Narrow-Gap-Reactive-Ion Etcher in SF6 by the Relaxation Continuum Model

Nobuhiko Nakano, Zoran Lj Petrović, Toshiaki Makabe

研究成果: Article査読

27 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「The Radical Transport in the Narrow-Gap-Reactive-Ion Etcher in SF6 by the Relaxation Continuum Model」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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